niusouti.com

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）A、物理气相沉积法；B、化学气相沉积法；C、气相法；D、固相法

题目

生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）

  • A、物理气相沉积法；
  • B、化学气相沉积法；
  • C、气相法；
  • D、固相法
相似考题

1.按流动相的物理状态划分,色谱法可分为()2种。A、气相色谱法和气液色谱法B、气相色谱法和固相色谱法C、气相色谱法和液相色谱法D、气固色谱法和气液色谱法

2.高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同，有（）两种。A、高温烧结和高温高压烧结B、化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）C、热压法（HP）和热等静压法（HIP）D、电镀法和电铸法

3.目前常用刀具涂层方法有（）。A、化学气相沉积法B、物理气相沉积法C、盐浴浸镀法D、等离子喷涂

4.下面的那一项不是磺化用的方法（）。A、液相磺化法B、气相磺化法C、固相磺化法

更多“生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指（）A、物理气相沉积法；B、化学气相沉积法；C、气相法；D、固相法”相关问题

  • 第1题：

    目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是（）

    • A、气相法
    • B、固相法
    • C、液相法
    • D、化学气相沉积法

    正确答案:C

  • 第2题：

    利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。

    • A、物理气相沉积（PVD）
    • B、物理气相沉积（CVD）
    • C、化学气相沉积（VCD）
    • D、化学气相沉积（CVD）

    正确答案:D

  • 第3题：

    直接氯化法用苯直接氯化制氯苯的方法，有（）和液相法两种。

    • A、气相法
    • B、固相法

    正确答案:A

  • 第4题：

    利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。


    正确答案:正确

  • 第5题：

    下面不是制造非晶硅太阳电池常用的方法是（）。

    • A、辉光放电法
    • B、反应溅射法
    • C、化学气相沉积法
    • D、电镀法

    正确答案:D

  • 第6题：

    判断题
    化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
    A

    对

    B

    错


    正确答案： 对
    解析： 暂无解析

  • 第7题：

    问答题
    简述化学气相沉积法的五个基本步骤

    正确答案： A.反应物已扩散通过界面边界层；
    B.反应物吸附在基片的表面；
    C.化学沉积反应发生；
    D. 部分生成物已扩散通过界面边界层；
    E.生成物与反应物进入主气流里，并离开系统。
    CVD反应是由这五个主要步骤所构成的。因为进行这五个的发生顺序成串联，因此CVD反应的速率取决于步骤，将由这五个步骤里面最慢的一个来决定。
    解析： 暂无解析

  • 第8题：

    单选题
    集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）
    A

    溅射物理气相沉积

    B

    蒸发物理气相沉积

    C

    等离子增强化学气相沉积

    D

    低压化学气相沉积


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第9题：

    问答题
    化学气相沉积（CVD）

    正确答案： 常压化学气相沉积，低压化学气相沉积，激光化学气相沉积，金属有机化合物化学气相沉积，等离子体化学气相沉积等目的是制备耐磨，抗氧化，抗腐蚀固态薄膜，适用于复杂零件及难熔金属、石墨、陶瓷等基体材料零件处理，可沉积难熔金属
    解析： 暂无解析

  • 第10题：

    填空题
    较为成熟的（）的制备方法主要有电弧法、热蒸发法、燃烧法和化学气相沉积法等。

    正确答案： 富勒烯
    解析： 暂无解析

  • 第11题：

    问答题
    化学气相沉积法的原理是什么？

    正确答案： 是通过化学反应的方式，利用加热等离子激励火光辐射等各种能源，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。
    化学气相沉积反应技术的反应原理：CVD是一种材料表面改性技术。它利用气相间的反应，在不改变基体材料的成分和不削弱基体材料的强度条件下，赋予材料表面一些特殊的性能。
    用于化学气相沉积技术的通反应类型通常有如下五种：
    （1）热分解反应；
    原理：是最简单的沉积反应。利用热沉积反应沉积材料一般在简单的单温区炉中进行，其过程通常是首先在真空或惰性气氛下将衬底加热到一定温度，然后导入反应气态源物质使其发生热分解，最后在衬底上沉积出所需的固态原料。
    热分解法可应用于制备金属、半导体以及绝缘材料等。
    （2）氧化还原反应沉积；
    （3）化学合成反应沉积；
    （4）化学输运反应沉积；
    （5）等离子体增强的反应沉积。
    化学气相沉积法合成生产的工艺种类包含的系统：
    一般而言，任何CVD系统，均包含一个反应器、一组气体传输系统、排气系统及工艺控制系统等。
    解析： 暂无解析

  • 第12题：

    单选题
    利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。
    A

    物理气相沉积（PVD）

    B

    物理气相沉积（CVD）

    C

    化学气相沉积（VCD）

    D

    化学气相沉积（CVD）


    正确答案： C
    解析： 暂无解析

  • 第13题：

    按照流动相的状态，可以把色谱分析法分为（）色谱法和液相色谱法。

    • A、气相
    • B、气固
    • C、气液
    • D、固相

    正确答案:A

  • 第14题：

    简述化学气相沉积法的五个基本步骤


    正确答案: A.反应物已扩散通过界面边界层；
    B.反应物吸附在基片的表面；
    C.化学沉积反应发生；
    D. 部分生成物已扩散通过界面边界层；
    E.生成物与反应物进入主气流里，并离开系统。
    CVD反应是由这五个主要步骤所构成的。因为进行这五个的发生顺序成串联，因此CVD反应的速率取决于步骤，将由这五个步骤里面最慢的一个来决定。

  • 第15题：

    在光纤的制备方法中，VAD法是指（）。

    • A、外部化学气相沉积法
    • B、轴向化学气相沉积法
    • C、改进的化学气相沉积法
    • D、等离子化学气相沉积法

    正确答案:B

  • 第16题：

    目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、（）、固相结晶、等。


    正确答案:液相外延

  • 第17题：

    化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么？


    正确答案:物理气相沉积，在真空条件下，用物理方法使材料气化成原子、分子或电离成离子，并通过物理沉积过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术；
    化学气相沉积，在一定条件下，混合气体相互作用或与基体表面相互作用而在基体表面形成金属或化合物薄膜的方法。

  • 第18题：

    单选题
    动相的物理状态划分，色谱法可分为（）两种。
    A

    气相色谱和气液色谱法

    B

    气相色谱法和固相色谱法

    C

    气相色谱法和液相色谱法

    D

    气因色谱法和气液色谱法


    正确答案： D
    解析： 暂无解析

  • 第19题：

    问答题
    何为化学气相沉积法？简述其应用及分类。

    正确答案： 1）化学气相沉积法（CVD）是指通过气相化学反应生成固态产物并沉积在固体表面的方法。
    2）CVD法可用于制造覆膜、粉末、纤维等材料，它是半导体工业中应用最为广泛的沉积多种材料的技术，包括制造大范围的绝缘材料、大多数金属材料和合金材料。
    解析： 暂无解析

  • 第20题：

    单选题
    按流动相的物理状态划分，色谱法可分为（）2种。
    A

    气相色谱法和气液色谱法

    B

    气相色谱法和固相色谱法

    C

    气相色谱法和液相色谱法

    D

    气固色谱法和气液色谱法


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第21题：

    单选题
    直接氯化法用苯直接氯化制氯苯的方法，有（）和液相法两种。
    A

    气相法

    B

    固相法


    正确答案： A
    解析： 暂无解析

  • 第22题：

    填空题
    气相沉积法分为（）和化学沉积法；化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、（）  。

    正确答案： 物理沉积法,等离子增强化学气相沉积与光化学沉积
    解析： 暂无解析

  • 第23题：

    问答题
    物理气相沉积（PVD）按沉积薄膜气相物质的生成方式和特征主要可以分为哪几种？

    正确答案： （1）真空蒸镀--镀材以热蒸发原子或分子的形式沉积成膜。
    （2）溅射镀膜--镀材以溅射原子或分子的形式沉积成膜。
    （3）离子镀膜--镀材以离子和高能量的原子或分子的形式沉积成膜。
    在三种PVD基本镀膜方法中，气相原子、分子和离子所产生的方式和具有的能量各不相同，由此衍生出种类繁多的薄膜制备技术。
    解析： 暂无解析

相关内容