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更多“按蒸发源加热方法的不同,真空蒸发工艺可分为:()蒸发、()蒸发、离子束蒸发等。A、电阻加热B、电子束C、蒸气原子”相关问题
  • 第1题:

    蒸发按操作方式可分为:()

    • A、间接加热和直接加热
    • B、单效蒸发和多效蒸发
    • C、常压、加压和真空蒸发
    • D、间歇蒸发和连续蒸发

    正确答案:D

  • 第2题:

    如果利用二次蒸汽作为下一个蒸发设备的加热蒸汽,最后一个蒸发器出来的二次蒸汽才进行冷凝。这种蒸发过程叫做()。

    • A、单效蒸发
    • B、真空蒸发
    • C、多效蒸发
    • D、蒸发

    正确答案:C

  • 第3题:

    尿液蒸发为何采用真空蒸发?


    正确答案: 在减压条件下液体的沸点降低,在较低温度下进行蒸发,可以利用低压蒸汽,又可使传热面积减少,可避免某些物质在高温下产生不良的副反应,对降低缩二脲生成,减少尿素的水解反应是有利的.

  • 第4题:

    换热器按其工艺性质分为()器。

    • A、加热、冷却、冷凝
    • B、加热、冷凝、蒸发
    • C、加热、蒸发、冷却
    • D、蒸发、加热、冷却、冷凝

    正确答案:D

  • 第5题:

    己二酸结晶回收工序所用的结晶方式是()结晶。

    • A、绝热真空蒸发
    • B、常压冷却降温
    • C、高温加热增浓
    • D、真空加热蒸发

    正确答案:B

  • 第6题:

    真空蒸发镀膜方法常见加热方式有哪些?


    正确答案: (1)电阻加热。蒸发源是以电阻加热并蒸发薄膜材料的方式为电阻加热。
    (2)电子束加热。利用电子枪产生电子束,轰击薄膜材料使之受热蒸发。
    (3)高频感应加热。盛放材料的导电坩埚的周围绕有高频线圈,当线圈中有高频电流时,坩埚中感应产生电流而升温,从而使材料受热汽化。
    (4)电弧加热。被蒸发材料作阴极,耐高温的钼杆作阳极,端部呈尖状,在高真空下通电时,在两电极间有一定电压,使两电极间产生弧光放电,使阴极材料蒸发。
    (5)激光加热。用激光束作为热源,使被蒸发材料汽化。
    (6)对于化合物与合金材料,有闪蒸蒸发(把薄膜材料做成细小颗粒或粉末状通过一定装置使其以极小的流量逐渐进入高温蒸发源)、多源蒸发(将合金薄膜所需的元素各自置于单独的蒸发源中,同时加热,并独立控制蒸发源的温度)、反应蒸发(把活性气体导入真空室,使活性气体的原子、分子与来自蒸发原子、分子在衬底表面反应,生成所天化合物)。

  • 第7题:

    简述热蒸镀(真空蒸发)膜与离子溅射膜的区别和优缺点。


    正确答案: 粒子具有的动能不同:蒸镀膜所沉积的粒子有较低的动能,而溅射出来的粒子有很高的动能,比蒸发高1~2个数量级。
    粒子飞向基体表面的分布规律不同:对于小面积蒸发源,气相原子飞向基体表面时按余弦定律分布。对于阴极溅射,靶是多晶材料且入射氩离子较大时符合余弦分布规律,但对单晶靶材,则产生择优溅射效应,不同晶面的溅射强度不同。
    粒子电性不同:蒸发出来的气相原子几乎都是不带电的中性粒子,但溅射出来的粒子,除中性原子或原子团外,还可能有正离子、负离子、二次电子和光子等多种粒子。
    真空度不同:蒸发镀时,真空度较高,气体分子平均自由程大于蒸发源到基体间的距离,气相原子在飞向基体的过程中,气相原子间或与残余气体分子间碰撞机会很少,它们基本上保持原有的能量,能量分布及直线飞行轨迹。阴极溅射时真空度较低,气体分子平均自由程小于靶材和基体之间的距离,溅射原子飞行过程中,相互间碰撞,原子及其他残余气体分子相互碰撞,改变了溅射原子方向,到达基体表面的粒子可来自基体正前方整个半球面空间的所有方向,因此较容易制备厚度均匀的薄膜。
    粘合力不同:蒸发镀所形成的膜容易从基体剥落,而阴极溅射所形成的膜由于形成了过渡层,能很好的跟基体结合,不易剥落。
    优缺点:
    蒸镀膜:薄膜成分与蒸发合金组分有偏离,薄膜含杂质少,基体和薄膜温度变化不大。
    溅射膜:薄膜成分与靶材一致,含较多杂质,基体和薄膜温度变化很大。

  • 第8题:

    下列哪个不是按加热方式分类的()

    • A、电阻加热
    • B、电子束加热
    • C、接触式加热
    • D、介质加热

    正确答案:C

  • 第9题:

    为提高蒸气的利用率,可供采取的措施有()。

    • A、多效蒸发
    • B、额外蒸气的引出
    • C、二次蒸气的再压缩,再送人蒸发器加热室
    • D、蒸发器加热蒸气所产生的冷凝水热量的利用

    正确答案:A,B,C,D

  • 第10题:

    判断题
    蒸发镀膜中电阻加热源可分为直接加热源和间接加热源,其中直接加热源的加热体和待蒸发材料的载体为同一物体;而间接加热源是把待蒸发材料放入坩埚中进行间接加热。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第11题:

    单选题
    二次蒸气为()。
    A

    加热蒸气

    B

    第二效所用的加热蒸气

    C

    第二效溶液中蒸发的蒸气

    D

    无论哪一效溶液中蒸发出来的蒸气


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    单选题
    不适用于浓缩较高黏度物料的蒸发器是()。
    A

    升膜式真空蒸发器

    B

    降膜式真空蒸发器

    C

    刮板式真空蒸发器

    D

    离心式薄膜蒸发器


    正确答案: A
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    在化工生产中,蒸发指的是将不挥发性物质的稀溶渡加热沸腾,使部分溶剂汽化,以提高溶液的()的单元操作。蒸发过程中经常采用饱和水蒸气间壁加热的方法,通常把作热源用的蒸气称为(),从溶液蒸发出的蒸气称为()。


    正确答案:浓度,一次蒸气,二次蒸气

  • 第14题:

    在蒸发操作中,从溶液中汽化出来的蒸气称为()

    • A、生蒸气
    • B、二次蒸气
    • C、加热蒸气
    • D、蒸发蒸气

    正确答案:B

  • 第15题:

    己内酰胺生产工艺中,蒸发一塔的加热蒸气采用()。

    • A、高压蒸气
    • B、中高压蒸气
    • C、中压蒸气
    • D、低压蒸气

    正确答案:D

  • 第16题:

    换热器的类型按工艺要求可分为()再沸器。

    • A、加热器
    • B、冷凝器
    • C、冷却器
    • D、蒸发器

    正确答案:A,B,C

  • 第17题:

    精酸结晶工序采用()结晶。

    • A、绝热真空蒸发
    • B、加热真空蒸发
    • C、冷却降温蒸发
    • D、常压加热蒸发

    正确答案:A

  • 第18题:

    二次蒸气为()。

    • A、加热蒸气
    • B、第二效所用的加热蒸气
    • C、第二效溶液中蒸发的蒸气
    • D、无论哪一效溶液中蒸发出来的蒸气

    正确答案:D

  • 第19题:

    按加热源的不同,可以分成()几种不同类型的蒸发。

    • A、真空蒸发
    • B、离子束蒸发
    • C、电子束蒸发
    • D、粒子束蒸发
    • E、常压蒸发

    正确答案:A,B,C

  • 第20题:

    不适用于浓缩较高黏度物料的蒸发器是()。

    • A、升膜式真空蒸发器
    • B、降膜式真空蒸发器
    • C、刮板式真空蒸发器
    • D、离心式薄膜蒸发器

    正确答案:A

  • 第21题:

    填空题
    真空蒸发的蒸发源有()、()、()、()等。

    正确答案: 电阻加热源,电子束加热源,激光加热源,高频感应加热蒸发源
    解析: 暂无解析

  • 第22题:

    判断题
    蒸发镀膜中电阻加热源可分为直接加热源和间接加热源,其中间接加热源是把待蒸发材料放入坩埚中,对坩埚进行间接加热。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    问答题
    真空蒸发镀膜方法常见加热方式有哪些?

    正确答案: (1)电阻加热。蒸发源是以电阻加热并蒸发薄膜材料的方式为电阻加热。
    (2)电子束加热。利用电子枪产生电子束,轰击薄膜材料使之受热蒸发。
    (3)高频感应加热。盛放材料的导电坩埚的周围绕有高频线圈,当线圈中有高频电流时,坩埚中感应产生电流而升温,从而使材料受热汽化。
    (4)电弧加热。被蒸发材料作阴极,耐高温的钼杆作阳极,端部呈尖状,在高真空下通电时,在两电极间有一定电压,使两电极间产生弧光放电,使阴极材料蒸发。
    (5)激光加热。用激光束作为热源,使被蒸发材料汽化。
    (6)对于化合物与合金材料,有闪蒸蒸发(把薄膜材料做成细小颗粒或粉末状通过一定装置使其以极小的流量逐渐进入高温蒸发源)、多源蒸发(将合金薄膜所需的元素各自置于单独的蒸发源中,同时加热,并独立控制蒸发源的温度)、反应蒸发(把活性气体导入真空室,使活性气体的原子、分子与来自蒸发原子、分子在衬底表面反应,生成所天化合物)。
    解析: 暂无解析