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上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离E、腭杆中部与模型应完全贴合

题目

上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求

A、腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离

B、腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离

C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离

D、腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离

E、腭杆中部与模型应完全贴合

相似考题

1.可摘义齿口腔就位后，出现摆动现象，多发生在A、第一磨牙缺失义齿B、侧切牙缺失义齿C、下颌双侧游离端义齿D、第二双尖牙缺失义齿E、上颌双侧游离端义齿

2.46岁。Ⅲ度深覆，上颌65∣56缺失，患者要求铸造支架式义齿修复，则最佳选择为A.舌面板B.树脂基托C.腭杆D.腭板E.舌托

3.可摘义齿口腔就位后，出现摆动现象，多发生在A．第一磨牙缺失义齿B．侧切牙缺失义齿C．下颌双侧游离端义齿D．第二前磨牙缺失义齿E．上颌双侧游离端义齿

4.某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钴铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架

参考答案和解析
参考答案：A
更多“上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求A、腭杆中部与 ”相关问题

  • 第1题：

    若设计为支架式可摘局部义齿,初戴时腭杆与黏膜的最合适关系是A.轻轻接触B.紧密接触S

    若设计为支架式可摘局部义齿，初戴时腭杆与黏膜的最合适关系是

    A.轻轻接触

    B.紧密接触

    C.离开0.5mm

    D.离开1.5mm

    E.不能无压力


    正确答案：A
    支架式可摘局部义齿中的腭杆一般情况下要求与黏膜轻轻接触，如有间隙，唾液在杆与黏膜之间流动，容易刺激黏膜，使患者恶心，另外食物也容易滞积，故选A。而答案B和E均会造成黏膜压力，不能选择。

  • 第2题：

    患者，男，67岁，左上颌缺失，余留牙稳固。要求可摘义齿修复。

    该病例若设计为整铸支架式义齿，前腭杆离牙龈缘的距离不宜小于
    A.4mm
    B.5mm
    C.6mm
    D.7mm
    E.8mm

    答案：C
    解析：
    1.可摘局部义齿各种不稳定现象表现为：①翘起；②摆动；③旋转；④下沉。

  • 第3题：

    某女患者，67岁。戴上颌义齿1天后，出现义齿摘戴困难。查：缺失。黏膜支持式可摘局部义齿。唇、颊侧基托边缘伸展至黏膜转折，前牙区牙槽骨较突。引起摘戴困难的原因是

    A.基托伸展过长，刺激黏膜转折处
    B.力大，义齿下沉
    C.义齿支持不足，压迫黏膜
    D.基托不密合，翘动引起
    E.基托进入倒凹区

    答案：E
    解析：

  • 第4题：

    女，50岁，半个月前戴可摘局部义齿，近两天感腭部疼痛。查：缺失，支架式可摘局部义齿修复，取下义齿后可见腭杆处有压痕，未见其他异常。引起腭部疼痛最可能的原因是

    A.力过大
    B.腭杆与黏膜贴合过紧
    C.腭杆不光滑
    D.腭杆过宽
    E.患者耐受力差

    答案：B
    解析：
    后腭杆与黏膜轻轻接触，在杆和黏膜之间可留有一定间隙，以免义齿下沉时，压迫黏膜而造成创伤和疼痛。

  • 第5题：

    患者，男，67岁，左上颌缺失，余留牙稳固。要求可摘义齿修复。

    此类牙列缺损的义齿可能出现的不稳定现象如下，除了
    A.翘起
    B.下沉
    C.弹跳
    D.转动
    E.摆动

    答案：C
    解析：
    1.可摘局部义齿各种不稳定现象表现为：①翘起；②摆动；③旋转；④下沉。

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