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()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A、蒸镀B、溅射C、离子注入D、CVD

题目

()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。

  • A、蒸镀
  • B、溅射
  • C、离子注入
  • D、CVD

相似考题
参考答案和解析
正确答案:A
更多“()是通过把被蒸物体加热,利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A、蒸镀B、溅射C、离子注入D、CVD”相关问题
  • 第1题:

    关于碱洗塔蒸煮的方法,下列说法不正确的是()。

    • A、在塔各段建立水循环
    • B、蒸煮时不需排水
    • C、需通入蒸汽加热
    • D、蒸煮时不能满塔

    正确答案:B

  • 第2题:

    用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫()。

    • A、蒸镀
    • B、离子注入
    • C、溅射
    • D、沉积

    正确答案:C

  • 第3题:

    在使用蒸煮锅蒸煮时,如果采用直接加热方式升高温度,必须采用药液循环加热系统。


    正确答案:错误

  • 第4题:

    加热炉炉管进行预蒸煮的目的是减少炉管蒸煮时对环境造成的污染。()


    正确答案:正确

  • 第5题:

    加热炉炉管蒸煮时进行预蒸煮时,蒸煮后的气体应()。

    • A、直接排向大气,但排放口位置要高
    • B、直接排向放空气火炬系统
    • C、直接排向主火炬系统
    • D、排向指定的冷却装置,以回收被蒸汽煮出来的油

    正确答案:C

  • 第6题:

    ()是指利用蒸汽对原料进行长时间加热,使原料酥烂,以便进行正式熟处理的方法。

    • A、久蒸预熟处理法;
    • B、速蒸预熟处理法;
    • C、足汽速蒸处理法;
    • D、汽导热预熟处理

    正确答案:A

  • 第7题:

    蒸制方法的基本操作要求是灵活掌握加热时间、蒸后进行辅助调味、()。


    正确答案:灵活掌握火力大小

  • 第8题:

    简述蒸镀与溅射的区别


    正确答案: 蒸镀:让材料加热气化(发射出粒子),再沉积到基片上成膜。
    溅射:用离子轰击,将靶材原子打出来,再沉积到基片上成膜。

  • 第9题:

    简述热蒸镀(真空蒸发)膜与离子溅射膜的区别和优缺点。


    正确答案: 粒子具有的动能不同:蒸镀膜所沉积的粒子有较低的动能,而溅射出来的粒子有很高的动能,比蒸发高1~2个数量级。
    粒子飞向基体表面的分布规律不同:对于小面积蒸发源,气相原子飞向基体表面时按余弦定律分布。对于阴极溅射,靶是多晶材料且入射氩离子较大时符合余弦分布规律,但对单晶靶材,则产生择优溅射效应,不同晶面的溅射强度不同。
    粒子电性不同:蒸发出来的气相原子几乎都是不带电的中性粒子,但溅射出来的粒子,除中性原子或原子团外,还可能有正离子、负离子、二次电子和光子等多种粒子。
    真空度不同:蒸发镀时,真空度较高,气体分子平均自由程大于蒸发源到基体间的距离,气相原子在飞向基体的过程中,气相原子间或与残余气体分子间碰撞机会很少,它们基本上保持原有的能量,能量分布及直线飞行轨迹。阴极溅射时真空度较低,气体分子平均自由程小于靶材和基体之间的距离,溅射原子飞行过程中,相互间碰撞,原子及其他残余气体分子相互碰撞,改变了溅射原子方向,到达基体表面的粒子可来自基体正前方整个半球面空间的所有方向,因此较容易制备厚度均匀的薄膜。
    粘合力不同:蒸发镀所形成的膜容易从基体剥落,而阴极溅射所形成的膜由于形成了过渡层,能很好的跟基体结合,不易剥落。
    优缺点:
    蒸镀膜:薄膜成分与蒸发合金组分有偏离,薄膜含杂质少,基体和薄膜温度变化不大。
    溅射膜:薄膜成分与靶材一致,含较多杂质,基体和薄膜温度变化很大。

  • 第10题:

    薄膜热电偶采用真空蒸镀方法,将热电偶材料蒸镀在绝缘基板上。


    正确答案:正确

  • 第11题:

    问答题
    以铝互连系统作为一种电路芯片的电连系统时,若分别采用真空蒸镀和磁控溅射工艺淀积铝膜,应分别从哪几方面来提高其台阶覆盖特性?

    正确答案: 真空蒸镀铝膜通过衬底加热和衬底旋转来改善其台阶覆盖特性。磁控溅射通过提高衬底温度,在衬底上加射频偏压,采用强迫填充技术,采用准直溅射技术。
    解析: 暂无解析

  • 第12题:

    问答题
    电子显微镜下直接观察薄膜蒸镀过程,发现薄膜的生长可以分为哪些?

    正确答案: (1)核生长类型(Volmer Veber型)
    (2)层生长型(Frank-Vanber Merwe 型)
    (3)层核生长型(Straski Krastanov型)
    解析: 暂无解析

  • 第13题:

    ()是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。

    • A、蒸镀
    • B、离子注入
    • C、溅射
    • D、沉积

    正确答案:C

  • 第14题:

    加热时牛乳质量的一般变化:()。

    • A、形成薄膜,
    • B、棕色化,
    • C、白色化,
    • D、蒸煮味。

    正确答案:A,B,D

  • 第15题:

    蒸氨塔蒸出的氨气进入()被循环水冷却。


    正确答案:氨分缩器

  • 第16题:

    加热炉炉管蒸煮前进行预蒸煮时,蒸煮后的气体应()。

    • A、直接排向大气,但排放口位置要高
    • B、直接排向放空气火炬系统
    • C、直接排向主火炬系统
    • D、排向指定的冷却装置,以回收被蒸汽煮出来的油

    正确答案:C

  • 第17题:

    热蒸汽传热的方式包括()的蒸汽传热,如对质嫩、蓉泥、蛋制品的加热多用放汽蒸。

    • A、非饱和状态
    • B、放汽蒸
    • C、二次蒸
    • D、多次蒸

    正确答案:A

  • 第18题:

    热蒸汽传热的方式包括()的蒸汽传热,如对质嫩、茸泥、蛋制品的加热多用放气蒸。

    • A、非饱和状态
    • B、放汽蒸
    • C、二次蒸
    • D、多次蒸

    正确答案:A

  • 第19题:

    微火沸水主要用于()

    • A、熟料蒸
    • B、加热蒸
    • C、保温蒸
    • D、生料蒸

    正确答案:C

  • 第20题:

    电子显微镜下直接观察薄膜蒸镀过程,发现薄膜的生长可以分为哪些?


    正确答案: (1)核生长类型(Volmer Veber型)
    (2)层生长型(Frank-Vanber Merwe 型)
    (3)层核生长型(Straski Krastanov型)

  • 第21题:

    ()方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。

    • A、蒸镀
    • B、离子注入
    • C、溅射
    • D、沉积

    正确答案:C

  • 第22题:

    问答题
    简述蒸镀与溅射的区别

    正确答案: 蒸镀:让材料加热气化(发射出粒子),再沉积到基片上成膜。
    溅射:用离子轰击,将靶材原子打出来,再沉积到基片上成膜。
    解析: 暂无解析

  • 第23题:

    判断题
    薄膜热电偶采用真空蒸镀方法,将热电偶材料蒸镀在绝缘基板上。
    A

    B


    正确答案:
    解析: 暂无解析